等離子體線性離子束專利

Denton Vacuum的線性高能射頻等離子體離子源技術最近獲准美國專利號10,815,570。該源設計為大面積無燈絲源，與高吞吐量直列式濺射系統完全兼容。

該源受專利保護的獨特功能包括：
- 獨立控制離子電流密度和離子能量的等離子體離子源

- 可自中和的等離子體離子束

- 矩形構造

線性離子源的優勢

Denton 的線性離子源提供安全的化學成分、高離子通量密度和可調節的離子能量。由於對離子電流密度和能量擁有完全控制，使單一源可生產多層膜。自中和組分降低了薄膜沉積過程中的污染機會，有助於提高薄膜質量，同時增加正常運行時間。

根據吞吐量要求，線性離子源在直列式和滾筒式配置中均可使用。由於等離子體離子束參數的擴展可調性，Denton的線性離子源提供了減少所需源數量的特殊功能，最大限度地降低了成本支出和維護要求。

通過這種線性離子源的設計，制造商可以更好地為需求快速增長的應用提供高質量薄膜，包括可折疊OLED顯示屏、類金剛石納米復合塗層和硬質抗反射塗層。