Nou 美國 CEE - 暫時鍵合及鍵合剝離機

自1987年生產出世界上第一台 矽晶圓製程中半導體等級桌上型的加熱板烘烤設備以來,一直是行業的標杆。 Cee旋塗機和加熱板通常用於黃光微影用的光阻和抗反射塗層、電子束光阻、溶膠凝膠、包裝膠黏劑、附著力促進劑、電介質和環氧樹脂基底的SU-8光阻以及光罩加工製程需求。
從那以後的幾十年裡,Cee的產品線擴展,包括旋塗光阻顯影和旋塗清潔系統,以及晶圓冷却板和大面積面板加工工具。 在 2016 年的 CS Mantech 展會上,推出了用於實驗室和小批量生產的全系列暫時晶圓鍵合機和鍵合剝離機。這些設備特別適用於化合物半導體、晶圓薄化製程和晶圓級封裝。

 

 

Apogee® Temporary Bonding System

Apogee™ 暫時鍵合機

 

 

▪    在預鍵合抽真空過程中,Carrier與Device是分開的
▪    自流平壓板將總厚度變化降至最低
▪    基板尺寸範圍:50-300 mm
▪    雙加熱壓板可減少熱缺陷
▪    真空鍵合腔體以消除voids
▪    CEE專有DataStream™ 軟體
▪    專為小批量生產而設計

 

Apogee® Mechanical Debonder

Apogee™ 鍵合剝離機

 

 

▪    精巧的機型設計
▪    對完全己加工的薄型圖型化晶圓進行內部鍵合剝離
▪    完全支援在晶圓薄膜框架上進行己圖型化的晶圓鍵合剝離,並降低處理風險
▪    對於圖型化晶圓,低加工應力
▪    基板尺寸(圓形):50 mm 至 300 mm
▪    CEE專有DataStream™ 軟體
▪    專為中小批量生產而開發
▪    可以長時間的機台運行
▪    可以針對晶圓尺寸變化    
▪    1名操作員最多可支援 3 台機台

 

暫時鍵合設備組合

 

 

 

Cost Effective Equipment 的暫時鍵合設備組合和製程開發專業知識為中小型生產需求提供了完整的薄晶圓處理方案

 

 

美國 CEE - 暫時鍵合及鍵合剝離機

  • $0.00
查詢