Nou 美國 CEE - 黃光塗佈顯影設備
美國 CEE - 黃光塗佈顯影設備

自1987年生產出世界上第一台 矽晶圓製程中半導體等級桌上型的加熱板烘烤設備以來，一直是行業的標杆。 Cee旋塗機和加熱板通常用於黃光微影用的光阻和抗反射塗層、電子束光阻、溶膠凝膠、包裝膠黏劑、附著力促進劑、電介質和環氧樹脂基底的SU-8光阻以及光罩加工製程需求。
從那以後的幾十年裡，Cee的產品線擴展，包括旋塗光阻顯影和旋塗清潔系統，以及晶圓冷却板和大面積面板加工工具。 在 2016 年的 CS Mantech 展會上，推出了用於實驗室和小批量生產的全系列暫時晶圓鍵合機和鍵合剝離機。這些設備特別適用於化合物半導體、晶圓薄化製程和晶圓級封裝。

 

 
Cee® X-Pro II Workstation
整合•容易•隨時可以運行
 
優點: 
▪    即插即用。立即啟動並運行
▪    整合的解決方案：工作站、設備和服務/安裝
▪    可客制化
 
一個簡單的解決方案
無論您需要一個或十個設備、煙霧控制還是乾淨的工作環境，Cee® X-Pro II Work stations是一個好的選擇方案。


 
 

 

 上方的機置選擇

管道排氣 風扇過濾器 再循環機制

 
 
機置的寛度選擇
64 英寸(4 個組合工作平台) 36 英寸(2 個組合工作平台)

 

 
*TOP VIEW
 
不同組合工作平台選擇

 
1個工作設備
Apogee™ Spin Coater Apogee™ Developer/Cleaner Apogee™ Bake Plate
1 個工作空間區*
DI 水槽

 
2 個工作設備
Apogee™ 450 Spin Coater 
Apogee™ 450 Developer/Cleaner
Apogee™ 300 Bake Plate
2 個工作空間區*

 *工作空間為未來的設備安裝做好準備

 

 

 

Apogee™ 300 Bake Plate 
▪    基板尺寸：最大 300 mm 圓形;方形(304.8mm)
▪    溫度範圍：室温至300°C (400°C可選)
▪    溫度均勻性：±0.3%(整個工作表面)
▪    用於可程式設計高度控制的pin腳
▪    溫度精準度：0.1°C
▪    CEE專有DataStream™ 軟體
▪    較小尺寸的型號可選

 
Apogee™ 450 Spin Coater
▪    基板尺寸：300mm圓形;14" x 14" 方形(最大)
▪    最大化學相容性的高密度聚乙烯(HDPE)Spin Bowl
▪    空載旋塗加速度：0 至 30,000 rpm/s 
▪    可選擇手動和自動旋塗
▪    精巧的機型設計
▪    全彩 7 英寸觸控顯示器
▪    CEE專有DataStream™ 軟體
▪    較小尺寸的型號可選

 
Apogee™ 450 Spin Developer
▪    無限制設置recipe程式
▪    高密度聚乙烯 (HDPE)spin bowl
▪    增強的機台上蓋開始輔助功能(空氣彈簧≥ 45°)
▪    基板尺寸：< 1 cm 至450mm圓形;14” x 14”方型
▪    轉速：12,000rpm
▪    全彩 7 英寸觸控顯示器
▪    精巧的機型設計
▪    CEE專有DataStream™ 軟體
▪    較小尺寸的型號可選
 

 

 

 

美國 CEE - 黃光塗佈顯影設備

  • 品 牌 Cost Effective Equipment
  • 型 號 CEE USA - Yellow light coating and developing equipment
  • 庫存狀態 有現貨
  • $0.00
查詢
收藏 對比