後道- 清洗設備

Jelight - 紫外臭氧清洗機

美國 JELIGHT JELIGHT 紫外線清洗機是一種快速乾式表面清洗工具。其原理是利用紫外線光子對有機物質所起的光敏氧化作用以達到清洗黏附在物體表面上的有機化合物（碳氫化合物）的..

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UltraT - 晶圓/基板/光罩清洗機

晶圓,基板,光罩清洗機 (Manual, Automated, Wet Bench/Batch) UltraT設備為半導體和微電子產業生產手動單面/雙面清潔系統。 UTE專門從事晶圓，光..

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德國 PVA Tepla- 等離子清洗系統

PVA是歷史悠久的德國高科技上市公司，在等離子體、真空系統、晶體生長等領域佔據世界領先地位；PVA TePla是PVA的一個部門，專業製..

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