NIL Technology (NILT) 是一家以製作并經銷納米壓印光刻模版为主，集压印服务、生產以及咨詢为一體的专業技術公司。 NILT 同時還致力于拓展納米結构的新兴應用領域，並取得了卓越的成就。我們的模版可以根據客户对所刻圖案的樣式和材料的具體要求進行特别加工。
- 模版的圖案尺寸可在 20nm 以下
- 大至 150nm 的圓形或方形模版
- 模版材料：硅，石英，镍等
- 適用于各種納米壓印版式的模版
NILT 的模版可以廣泛應用於不同的領域，例如：
- 可再生能源
- 微流體、纳流體
- 發光二极管和激光器
- 生命科學，如芯片實驗室系統
- 光學
- 射頻元器件
- 數据存儲
- 安全系統
- 半導體
更多以上的應用範圍外，請與我們查詢。
NILT 主要產品包括：
- 熱壓和紫外壓印服務
- 納米壓印模版
- 納米壓印設備
- 熱壓和紫外壓印服務
高分子聚合物中間層壓印技術可以實現納米壓印/熱壓印非平面化的壓印，同時高分子聚合物中間層的熱塑弹性材料實現納米結構的轉移和復製。可保護昂貴的母板因多次轉印而損壞，同時用於母板的復制。
緊湊型納米壓印工具
一款微米和納米級別簡易復制的桌面納米壓印工具
CNI v3.0
CNI 是一款支持研發的桌面納米打印工具。
CNI 是一種創新的桌面大小尺寸工具，用於納米壓印和熱壓印。它使用母片將微米或納米結構轉移到基片上。
CNI 工具可以進行熱復制和紫外線復制。該工具有兩種版本，支持直徑達 120 毫米或 210 毫米的母材和基材。
CNI 工具非常適合那些剛開始使用納米壓印技術的人，但它也能支持成熟和高級的開發工作。
材料方面
硅納米壓印光刻用于熱納米壓印光刻或作为母板的聚合物生产。 由客户提供的項目决議規定下任何圖案分辨率達 20nm 納米和寛比可達 1：10。
熔融二氧化硅納米壓印光刻模板用於紫外纳米壓印光刻技術。NILT 提供熔融石英模板，由客户指定的任何模式下低於 30nm 和寬比可達 1：5。
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鎳墊片被用於熱壓印和輥到輥子設置。 NILT 提供鎳與郵票大小達 600mm x 600mm，厚度降低到 50µm。鎳墊片可以用圖形化的微結構和納米結構。
PDMS 模板是由硅或熔融石英大師鑄造。 NILT 提供的 PDMS，分辨率降低到 100nm，具有高寬比可達1：2。
聚合物納米壓印光刻是由硅或石英玻璃制成的母板，典型地由熱納米壓印光刻工藝。 NILT 任何聚合物並與客戶指定的任何模式提供聚合物模板。最小 i 分辨率 I50nm，縱橫比可以高達 1：3。
由熔融二氧化硅和用於紫外線步進 - 重復過程。 分辨率下降到 50 nm，可定任何模式，縱橫比高達 1：5。
應用方面
模板與凹形或凸形的微透鏡陣列用於通過熱壓印或注塑生產使用。
通過熱壓印或注塑定制墊片的鎳生產微流體和實驗室級芯片 (LOC) 系統。
納米壓印模版
標准印記含有緊密堆積排列為蜂窩形狀與各個透鏡之間三維交叉點的微透鏡的結構。
專為一組多功能設計擴散器的研發工作，以及對產品和工藝的開發。
理想的生產線柵偏振器的通過納米壓印光刻，用於測試目的。郵票的特點為 12mm x 12mm，50nm 的線條和空間的大型活動區域。
是大面積和高性價比的功能標准郵票鎳具有漸變折射率分布，並與不斷變化的有效折射率。
多模式標准壓印是最佳的納米壓印工藝試驗 NIL 設備和測試。本標準郵票帶有線寬下降到 50nm。
亞微米 Sub-Micro 標准壓印
是最佳的内部納米壓印光刻技術和墊壓測試和工藝开發。壓印包含 4 種不同尺寸和 4 種不同的模式。
大面積的支柱標準郵票是在硅谷高品質標准的印章與光子晶體和防反射結構的大面積圖案。它有 4 個區域，每次 1cm x 1cm，方形陣列的支柱。
非常適合納米壓印光刻技術和熱壓領域內工藝試驗。壓印的特點是具有 3，5，10 和 20 微米大小的方形石柱/孔陣列。
微型標准壓印
是最佳的內部納米壓印光刻技術和墊壓測試和工藝開發。印模含有 3 種不同尺寸 3 個不同的圖案。
線寬至 100nm。
微型注射針頭結構
The micro-needle standard stamp 微針標准戳記包含的微針的逆結構 - 即微針形孔。微針標準戳記可用於生產微針或者通過熱壓印或鑄造。
光柵的間距在這兩種情況下為 500nm 和光柵的平均深度為 250nm。
納米壓印設備
CNI - Thermal NIL Tool
NILT CNI 實驗用納米热壓印機是專為實驗室和研發機構設計和开發的簡單易用、性能稳定的研發型設備，用户可以通過 CNI 設備高效、低成本地實现高精度的納米熱压工藝，许多知名的研發機構均購買了 CNI 的設備。NILT CNI 熱壓設備，占地小、操作簡便，可实现高质量的圖形復製，可實現納米热壓設備的一切功能，而无需昂贵的工藝設備。
典型應用：
- 在硅片上制作納米级光栅
- 压印易碎的材料 (例如 III-V 族材料)
- 微结構加工
- 制作壓印印章
- 保护母版的適用壽命
- 热壓高深宽比结構圖形
主要性能：
- 可加工 4 英寸以下任意尺寸衬底
- 拥有專利技術的卡盘設計，可保证快速升温、降温并保持良好的温度均匀性。
EZI - UV NIL Tool
EZImprinting（EZI）納米壓印技術平台（NTP）是一个獨立的納米壓印站包括自動释放™功能的納米壓印模块和自動印记控製器。
- PLC 屏幕程序控制
- 客户可自由設置工藝參數
- 晶圓与模板由真空卡盘固定
- 兼容传統的 UV 固化印胶工藝
- 4“ 晶圓，壓印区域为 2”
- 壓印範圍：0 - 25PSI (可升级到100PSI)
- 壓印模板尺寸： 5 x 0.090"
- 產量預計：<5 分鍾/片
NIL Simprint Core v2.1 - 仿真软件
为了支援納米壓印用户，節省了宝貴的時间在實驗室上的印记参數的优化，NILT 提供 Simprint 仿真軟件。
该軟件提供了残積層厚度 (RLT) 的變化模拟，并协助確定最佳工藝参數。
主要性能：
- 残留層厚度模拟
- Fast full-chip 模拟
- 支援 UV-NIL 及壓 NIL
- 模拟粗糙的基材的影響
Simprint Core v2.1 - 仿真軟件
