光阻顯影機
Model PRD408
高效型號 PRD408 是用在晶圓和基板上自動光阻顯影的理想解決方案。這種非常可靠和具有成本效益的系統是利用一個專有快速沖洗的技術來有效的對晶圓做顯影。快速填充去離子水可以精確控制循環時間。顯影劑可以不斷被過濾並自動補充，溫度可以精確地保持在顯影過程中。
特徵：
• 可相容到 8 吋晶圓。
• 大容量顯影液填充可快速浸泡晶圓。
• 溫度範圍為 50oF 至 100oF，分辨率為 ±0.3oF。
• 可調整式機械攪拌做均勻的顯影。
• 在顯影流程結束大型快速卸載閥可快速排放顯影液。
• 六個去離子水噴嘴可快速有效地顯影。
• 可快速填充及排放去離子水，有更快的循環時間。
• 利用氮氣屏障做顯影液隔離。
• 自動填充功能來維持系統正常運作。
• 0.45μm 顯影劑過濾能力。
• 微處理器控制可做顯影編程。
蝕刻和剝離系統 (Etch and Strip Systems)
Model CESx124
UltraT CESx124 系列獨特的設計可滿足當今先進晶圓及基板的蝕刻及剝離。高效的 CESx124, 126, 128 或 133 是可蝕或剝離光阻從小直徑到非常大直徑的各種尺寸晶片，是光罩、晶圓和基板的蝕刻和清潔的理想選擇。
具有非常可靠和成本效益的系統是採用經過驗證的各種技術。CESx 可配置不同噴嘴頭像是超聲波噴嘴、旋轉刷頭、高壓或是低壓噴嘴並用 DI-H2O 或其它化學溶劑來做蝕刻或剝離。
可編程的拋物線臂運動有助於確保蝕刻的均勻。快速有效的乾燥技術結合了可變旋轉速度; 另可選配加熱 DI-H2O 和氮氣輔助。
特徵：
• 系統被設計用於安全控制。
• 可相容至（9x9）英寸/ 300mm 直徑的基板。
• 主軸組件配置直流無刷伺服馬達，可精確控制速度。
• 可調式轉速鐵氟龍塗層不銹鋼臂桿和行程位置。
• 用於清潔和乾燥輔助的去離子水加熱器。
• 處理腔體可相容 PVDF 材料或可選 PTFE。
• 獨立聚丙烯櫃。
• 微處理器控制可以儲存 30 個編程的配方。
• 內建安全控鎖和雙重安全殼。
• 按鈕式上蓋打開/關閉。
• 觸控式圖形用戶界面（GUI），易於編程和螢幕顯示錯誤報告。
• 廢液分流排水閥。
• 以 SEMI S2 / S8 設計。
UltraT model RSSx 光阻剝離系統
1. 特別設計用於晶圓或是基板上的正/負型光阻剝離，可承載至最大13x13英吋基板。
2. 主軸組件配置直流無刷伺服馬達，可精準控制速度，最多可配置4隻清潔手臂。
3. 多種清潔刷頭/噴嘴可供選擇，像是旋轉尼龍刷頭、超聲波噴嘴、高壓或低壓噴嘴並用化學溶劑來做剝離。
4. 觸控式圖形用戶介面，微處理器控制可儲存30組編程清洗參數設定。
5. 內建安全控鎖及廢液分流排水閥。
6. 手動或全自動晶圓將裝卸載設計。
UltraT - 光阻顯影機/蝕刻剝離機/光阻剝離機
