美國 JELIGHT
JELIGHT 紫外線清洗機是一種快速乾式表面清洗工具。其原理是利用紫外線光子對有機物質所起的光敏氧化作用以達到清洗黏附在物體表面上的有機化合物（碳氫化合物）的目的。是清除矽、砷化鎵、石英、藍寶石、玻璃、雲母、陶瓷、金屬等表面有機污染物的最安全、最有效的方法。 除清洗外，JELIGHT 紫外線清洗機還可用於表面改質，如透過紫外線處理後，塗層與表面的黏附力可大幅增加，並可用於生物晶片製作過程中 PDMS 鍵合等。
紫外臭氧清洗机 UV Ozone Cleaners
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應用實例： ■ 鍍膜或塗膠前徹底清洗表面有機污染
■ 光阻、基片藍膜去除
■清潔焊劑，混合電路以及平板LCD顯示器
■刻蝕 Teflon，Viton和其它
■ 增強塑膠表面鍍膜的黏著性
■增強 GaAs和Si氧化物鈍化表面
■ Si片表面生長氧化層 多用於半導體生產中晶圓及光刻板清洗，光學鏡 頭、太陽能面板清洗，氧化物生長表面改性 Jelight是紫外線產品設計和生產的全球領導者。 為大多數TOC儀器生產紫外線替換燈及各種低 壓汞燈，適用於各種應用，包括：電弧成像，色譜， 光化學，紫外線偵測器校準，分光光度計校準等等！
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Model 18
Model 42 Series |
紫外線清洗優點:
1. 被清洗的表面除了光子，不與任何物體發生接觸，有機物經過紫外光照射發生光敏氧化反應後，生成可揮發性氣體（CO2、CO、H2O等）從表面消散，隨著排風系統抽走。
2. 表面潔淨度高，且不會像溶液清洗時發生二次污染。
3. 光清洗的表面不會受到損傷，由於光子的能量相對比氬等離子體濺射或惰性氣體離子轟擊的能量小，光清洗後的表面不會受到損傷或發生晶體缺陷的現象。
4. 光清洗對物體表面微細部位（如孔穴、微細溝槽等）具有有效且徹底的清洗效果。由於紫外光是奈米短波紫外線，能夠射入材料表面的極為 細微的部位，發生光敏氧化反應，充分錶現出光清洗的徹底性。
臭氧發生器 Ozone Generator臭氧發生器 型號：2000，1000和600可產生臭氧濃度超過6000ppm。進出的端口為直徑1/4”。可調式流量計，最高流量5L/min。使用者可依臭氧濃度需求調整。機器內提供冷卻系統，增長紫外線燈壽命。
臭氧（氧化電位2.7eV）的反應活性相當強，是強氧化劑。在許多新領域的研發過程中，它逐漸成為不可或缺的元素之一。其中包含化學實驗室，大學以及電子，醫藥，化學，生物和醫學研究機構。在工業應用的範圍也增加許多。例如半導體產業，環境研究。飲用水及污水處理，塑膠和包裝產業以及食品加工技術。臭氧也被常用為殺菌與消毒液體，氣體和固體有機物質。無論是單一的實驗室或實驗工廠，甚至是工業生產的規模，由於新的技術，使生產臭氧不再成為經濟負擔。本公司的產品專門使用低壓汞氣燈所放射出的短波紫外線，來產生純淨的臭氧。訂購時，請指明 120VAC/60Hz 或 220VAC/50Hz 的電源供應器。
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臭氧濃度檢測器 (Ozone monitor)
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紫外光擦除器 CHIPnERASER / EPROM Erasers 工作光強度高於市場其它產品25%，數位計時器及操作完成自動警報，自動關閉功能光照均勻，確保快速完全擦除純金屬機櫃快速放樣/取樣托盤安全互鎖設計，避免UV誤曝光。 托盤設計，堅固耐用可堆疊放置，方便快速取放晶片數位計時器，可放置8”或12”晶圓尺寸。
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